A new experimental approach to evaluate plasma-induced damage in microcantilever

Pencarian berdasarkan :

SEMUA Pengarang Subjek ISBN/ISSN Pencarian Spesifik

Pencarian terakhir:

Image of A new experimental approach to evaluate plasma-induced damage in microcantilever

Text

A new experimental approach to evaluate plasma-induced damage in microcantilever

pengetsaan sinar netral (neutral beam etching atau NBE) - Nama Orang;

Pengetsaan plasma selama proses fabrikasi-mikro adalah peristiwa yang tak terhindarkan dalam proses fabrikasirnstruktur-struktur MEMS. Selam?t'proses plasma berjalan, dua materi utama, yaitu ion bermuatan dan kerusakan iradiasirnvakum-ulraviolet (VUV), berperan penting dalam memastikan reliabilitas proses degradasi. Ion-ion bermuatanrnmenyebabkan pengetsaan sisi-dinding, yang tidak diharapkan, suatu peristiwa yang umumnya disebut penotsaan"rn("notching")

Ketersediaan

Tidak ada salinan data

Informasi Detail

Judul Seri: Makara seri teknologi
No. Panggil: -
Penerbit: : American foundations information service., 2013
Deskripsi Fisik: -
Bahasa: English
ISBN/ISSN: 1693-6698
Klasifikasi: -
Tipe Isi: -
Tipe Media: -
Tipe Pembawa: -
Edisi: Vol. 17, No. 2, Tahun
Subjek: yangrnmenggunakan partikel-partikel netral tanpa i
Info Detail Spesifik: -
Pernyataan Tanggungjawab: iradiasi VUV menimbulkan kecacatanrnkristal pada permukaan etsa. Untuk mencegah hal ini

Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas

Tidak Ada Data

Komentar

Anda harus masuk sebelum memberikan komentar