Text
Seebeck Coefficent oF SoI Layer Induced by Phonon Transport
Koefisien Seebeck Lapisan SOI yang Diinduksi oleh Transpor Phonon. Koefisien Seebeck pada kawat Si berpola pada lapisan SOI bersalut-P dengan konsentrasi pembawa sebesar 10 cm diukur pada suhu mendekati suhu kamar. Ditemukan bahwa koefisie Seebeck-nya lebih kecil daripada koefisien Seebeck pada lapisan SOI dan lebih dekat pada koefisien Seebeck yang telah diperhitungkan, termasuk kontribusi elekroniknya. Penurunan koefisien Seebeck pada kawat Si mungkin terjadi akibat hilangnya kontribusi bagian tarikan fono. Dari perhitungan teoretis terhadap rasiorasio pengacakan yang dilakukan dengan memperhitungkan proses-proses pengacakan di dalam sistem fonon, dapat disimpulkan bahwa kenaikan pengacakan batas-fonon dan penurunan yang terjadi pada bagian simpang dari lapisan SOI secara simultan mungkin menjadi penyebab menghilangnya efek tarikanfonon
Tidak ada salinan data
Tidak tersedia versi lain