Lapisan tipis indium timah oksida (ITO) dideposisikan pada substrat gelas coming dengan metodernsputtering menggunakan gas argon. Parameter deposisi dan penambahan oksigen dalam gas sputtering dioptimasi untukrnmendapatkan tingkat transparansi lapisan tertinggi dan resistivitas listrik terendah melalui pengamatan struktur, sifatrnlistrik dan sifat optik. Peningkatan laju deposisi dan ketebalan …